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企業情報
会社概要
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★半導体デバイスの微細化や、最新鋭の技術を開発する上で不可欠なウルトラファインケミカルを提供しています★
■高純度ファインケミカル技術により先端産業向け材料を提供する研究開発型企業です。主な製品種類は、ウェハの表面上に薄膜を化学反応を用いて堆積させる「CVD材料」、薄膜の不必要な部分を腐食させて削り取る「エッチング材料」、ウェハ上にトランジスタやダイオード等を作るために不純物を注入させる「拡散材料」となっております。
■半導体デバイスの微細化、化学物質を取り巻く法規制等により、半導体業界からは常に 材料変更・純度向上の要求があります。その要求に対し、材料工学・応用化学の観点から常に新しい材料の開発・提案を行い新材料の供給を行っております。
■日本はもちろん、今後は台湾・韓国・中国などの東アジアを中心に販売拡大を計画しています。それに向けての人員・設備への投資を実施予定です。
■社員の約7割が化学系出身の技術者集団です。営業もほとんどが製造・技術開発を経験した者なので、顧客のニーズを把握し、社内開発部門へ的確なフィードバックが出来る体制となっております。
設立日
- 1978年12月
資本金
- 32億7,891万円
株式公開
- プライム市場
従業員数
- 101～500人
所在地
-
〒409-0112
山梨県上野原市上野原8154-217
この企業の社風・環境
【オープンな社風で経営や現場業務も実感できます】
■当社では社長をはじめ技術部門や営業、管理部門とも本社のワンフロア―で業務を執り行っています。
■開発・製造・営業はすべて化学系出身者のため、困ったことがあっても打合せ・相談が出来る環境です。他部門の人の意見が聞けて新たな発見があるかもしれません。
■当社では社長をはじめ技術部門や営業、管理部門とも本社のワンフロア―で業務を執り行っています。
■開発・製造・営業はすべて化学系出身者のため、困ったことがあっても打合せ・相談が出来る環境です。他部門の人の意見が聞けて新たな発見があるかもしれません。
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